블랭크마스크 · 펠리클 · EUV 소재. 에스앤에스텍은 미세화 시대의 핵심 소재 기술로 글로벌 반도체 생태계와 함께 성장하는 첨단소재 기업입니다.
블랭크마스크부터 EUV 소재, R&D까지 — 미세공정의 모든 단계를 잇는 핵심 소재 포트폴리오.
포토마스크의 원소재. 고평탄·저결함 박막 적층으로 미세 패턴의 기준을 만듭니다.
마스크 표면의 이물 보호막. 고투과·고내구 멤브레인으로 수율과 가동률을 지킵니다.
13.5nm 극자외선 공정용 차세대 소재. EUV 블랭크마스크·펠리클 기술을 선도합니다.
차세대 공정을 내다보는 소재 연구개발. EUV 시대의 기술 리더십을 축적합니다.